설명
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탄화규소는 전력 전자, 고온 전자, 마이크로 전자 장치 등 광범위한 응용 분야에 사용되는 반도체 소재입니다. 탄화규소(SiC)는 내구성이 뛰어나고 열악한 환경을 견딜 수 있어 고전력 전자 장치 및 응용 분야에 이상적인 선택입니다. 그러면 탄화규소는 어떻게 생산되나요?
탄화규소 생산에는 여러 단계가 포함된 복잡한 제조 공정이 필요하며 각 단계는 재료의 최종 품질에 영향을 미칩니다. 탄화규소 생산 공정에 대한 포괄적인 개요는 다음과 같습니다.
1. 원료 준비: 생산 공정의 첫 번째 단계는 원료 준비입니다. 탄화규소 생산 공정에 사용되는 주요 원료는 규사와 탄소입니다. 규사는 전기로에서 고온(약 2000도)으로 가열되어 탄소와 혼합되어 SiC를 형성합니다.
사양
| 모델 | 구성요소 퍼센트 | |||
| 60# | SiC | F.C | Fe2O3 | |
| 65# | 60분 | 15-20 | 8-12 | 최대 3.5 |
| 70# | 65분 | 15-20 | 8-12 | 최대 3.5 |
| 75# | 70분 | 15-20 | 8-12 | 최대 3.5 |
| 80# | 75분 | 15-20 | 8-12 | 최대 3.5 |
| 85# | 80분 | 3-6 | 최대 3.5 | |
| 90# | 85분 | 최대 2.5 | 최대 3.5 | |
| 95# | 90분 | 1.0최대 | 1.2최대 | |
| 97# | 95분 | 0.6최대 | 1.2최대 | |
2. 화학적 정제: 이전 단계에서 생성된 SiC에는 재료의 품질을 향상시키기 위해 제거해야 하는 불순물이 포함되어 있습니다. 화학적 정제에는 SiC를 다양한 화학물질과 용매로 처리하여 불순물을 제거하고 재료의 구성을 개선하는 작업이 포함됩니다.
3. 모양 및 크기 제어: 정제된 SiC는 특정 응용 분야 요구 사항에 따라 모양과 크기가 조정됩니다. 재료는 블록, 원통, 디스크, 타일 등 다양한 모양으로 형성될 수 있습니다. SiC 재료의 크기는 특정 응용 분야 요구 사항을 충족하도록 제어할 수도 있습니다.
4. 소결: 성형 및 크기 조정된 SiC 재료는 기계적 특성을 개선하기 위해 고온 오븐에서 소결됩니다. 소결에는 SiC 재료를 제어된 환경에서 고온(최대 2500도)으로 가열하여 재료의 입자를 고체 덩어리로 결합시키는 작업이 포함됩니다.
5. 마무리: 탄화규소 생산 공정의 마지막 단계는 마무리 공정입니다. 여기에는 표면 품질을 개선하고 원하는 마감을 생성하기 위해 SiC 재료를 연삭하고 연마하는 작업이 포함됩니다. 완성된 SiC 소재는 다양한 응용 분야에 사용할 수 있습니다.
탄화규소 생산 공정은 각 단계의 세부 사항에 세심한 주의가 필요한 복잡하고 시간이 많이 걸리는 공정입니다. 그러나 생성된 재료는 전력 전자, 고온 전자, 마이크로전자 장치 등 다양한 응용 분야에 사용할 수 있는 다목적이고 내구성이 뛰어난 반도체입니다. 고성능 전자 장치에 대한 수요가 증가함에 따라 탄화규소의 생산은 앞으로도 지속적으로 성장하고 발전할 것으로 예상됩니다.
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